厭氧環(huán)境如何形成
厭氧要求有機物濃度較高,一般大于1000mg/L以上.所以厭氧適于處理高濃度有機廢水和污泥處理.和好氧生物處理一樣,厭氧處理也要求供給全面的營養(yǎng),但好氧細菌增殖快,有機物有50～60%用于細菌增殖,故對N、P要求高；而厭氧增殖慢,BOD僅有5～10%用于合成菌體,對N、P要求低.
COD∶N∶P＝200∶5∶1或C∶N＝12～16（好氧COD∶N∶P＝100∶5∶1）
厭氧過程對環(huán)境條件要求比較嚴格：
Ⅰ、氧化還原電位（φE）與溫度
氧的溶入和氧化態(tài)、氧化劑的存在：Fe3+、Cr2O72-、NO3-、SO42-、PO43-、H+會使體系中電位升高,對厭氧消化不利.
高溫消化——500～600mv,50～55℃
中溫消化——300～380mv,30～38℃
產酸菌對氧還—還電位要求不甚嚴格＋100～－100mv
產甲烷菌對氧還—還電位要求嚴格＜－350mv
Ⅱ、pH及堿度
pH主要取決于三個生化階段的平衡狀態(tài),原液本身的pH和發(fā)酵系統(tǒng)中產生的CO2分壓（20.3～40.5kpa）,正常發(fā)酵pH＝7.2～7.4,有機負荷太大,水解和酸化過程的生化速率大大超過產氣速率.將導致水解產物有機酸的積累使pH下降,抑制甲烷菌的生理機能,使氣化速率銳減,所以原液pH＝6～8,發(fā)酵過程有機酸濃度不超過3000mg/L為佳（以乙酸計）.
HCO3-及NH3是形成厭氧處理系統(tǒng)堿度的主要原因,高的堿度具有較強的緩沖能力,一般要求堿度2000mg/L以上,NH3濃度50～200mg/L為佳.
Ⅲ、毒物——凡對厭氧處理過程起抑制和毒害作用的物質都可稱為毒物,無機酸濃度不應使消化液pH＜6.8；不應高于1500mg/L
